其中，聚合物表面改性研究进展有机旋涂多层掩模技术中使用的旋涂为碳氢聚合物，有机材料的减反射层为含硅碳氢聚合物，两者均为液态，低温烘烤形成固态掩模。之所以称为软掩模技术，是因为它被集成到光刻机中，并且过程非常快。用于高级图形材料的多层掩模也称为硬掩模技术，因为它们是高级图形材料（非晶碳膜）的化学气相沉
