一种常用的气体是惰性气体氩（Ar）。这通常在真空设备清洁过程中与氩气结合使用，氩气等离子体除胶以有效去除表面纳米级。污染物。可引入氧气（O2）有效去除光刻胶等有机污染物，增强蚀刻效果。还有氢 (H2) 可以与其他更难去除的氧化物结合使用。通常，选择氢-氮混合气体（95% 的氮和 5% 的氢）。广泛使
