由于其性能，漳州真空等离子清洗机功能它被广泛用于集成电路最终保护膜、耐磨耐腐蚀涂层、表面钝化、层间绝缘、介质电容器等。氮化硅薄膜用于制造新的功能性、多功能、可靠的器件和等离子表面处理，其性能高度依赖于薄膜的制造条件。等离子化学气相沉积（简称PECVD）具有沉积温度低（
具有报警输出的二次减压计：为了实时监测设备的气压是否符合工作要求，漳州真空等离子清洗的旋片罗茨式真空泵功能在气体调压阀上都会设置有报警输出功能的压力表，当压力过低时输出报警信号，保证设备正常运行，保证工艺气体稳定。真空电磁阀：低压等离子设备清洗机在工作时，需要保持真空度和真空腔的密封，所以它连接腔的