等离子处理器的结构分为三个主要部分:等离子处理器用于清洗、蚀刻、浸涂、灰化和表面改性。其清洗后，外延片plasma蚀刻可提高材料表面润湿性能，使多种材料可控制浸涂，增强附着力，粘结力，除有机污染物、油污或润滑脂外。等离子处理器利用活性组分的特性来清洁样品的表面，从而达到上述目的。等离子体可用于清洗、
