300 mm 晶圆级离子束的均匀性和方向性尚未得到解决。等离子清洗机的RIE和ICP蚀刻可以更有效地控制侧壁沉积物的形成，ICP等离子体除胶机不同材料之间的蚀刻选择性对于图案转移的准确性和蚀刻形状的控制很重要。等离子清洗机通常使用卤素气体（主要是Br、Cl、F气体）进行金属蚀刻。当应用于图案化磁存储
