广东芳如达科技有限公司 2023-04-11 11:23:05 119 阅读
等离子体蚀刻机是工业生产半导体行业必不可少的设备: 等离子体蚀刻机采用高密度2.45GHZ微波等离子技术,pvc底涂胶附着力等级对半导体制造中的晶片进行清洗、去胶和等离子体前处理,微波等离子体清洗、去胶具有很高的活性,而且对器件无离子损伤。等离子体蚀刻机是微波等离子处理技术的新产品,圆片灰化设备成本低,尺寸适中,性能先进,特别适合工业生产和科研机构使用。
随着气体变得稀薄,pvc底材附着力树脂分子间距和分子和离子的自由运动距离也发生变化。当在电场的作用下形成碰撞等离子体时,此时会发出辉光,因此称为辉光放电处理。辉光放电时的气压对材料加工效果影响很大。该影响还与放电功率、气体成分和流量以及材料类型等因素有关。这种类型的等离子体具有一些显着的特性。 1、气体产生辉光现象,常称为“辉光放电”。由于是真空紫外线,对蚀刻速度有非常积极的影响。 2. 气体中含有中性粒子、离子和电子。
易于采用数控技术,pvc底材附着力树脂自动化程度高;采用高精度控制装置,时间控制精度很高;正确的等离子清洗不会在表面产生损伤层,表面质量得到保证;由于是在真空中进行,不污染环境,确保清洗面不受二次污染。在等离子体等离子体清洗机的应用中,主要采用低压气体辉光等离子体。一些非高分子无机气体(Ar2、N2、H2、O2等)在高频低压下被激发产生许多活性粒子,包括离子、激发分子、自由基等。
此外,pvc底材附着力树脂由于可以根据硅晶片的尺寸产生大气压等离子体,因此即使是最小的等离子体也可以使用。。一般来说,等离子清洗机的清洗过程可以分为两个过程。一般来说,等离子清洗机的清洗过程可以分为两个过程。过程 1 是首先使用等离子体原理去除有机物。当O在激活气体分子后使用时,O3通过与有机物反应达到去除有机物的目的。过程二:表面活化先利用等离子体原理活化气体分子,再进行O表面活化。 O3含氧官能团,提高材料的粘合性和润湿性。
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3、在真空室内的电极与接地装置之间施加高频电压,使气体被击穿并通过辉光放电而发生等离子化和产生等离子体,让在真空腔内产生的等离子体笼罩住被处理的工件并开始清洗作业,一般清洗处理持续几十秒到几十分钟不等,根据处理材质的不同而定。4、清洗完毕后切断电源,并通过真空泵将气体和气化的污垢抽走排出,清洗结束。
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本文分类:玉溪
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发布日期:2023-04-11 11:23:05