2：如H2+E-→2H*+EH*+非挥发性金属氧化物→金属+H2O，金属材质油墨丝印附着力实验结果表明，氢等离子体可以通过化学反应去除金属表面的氧化层并进行清洗。 . C、物理化学反应清洗：必要时引入两种选择性、清洗、均匀性和方向性优良的混合工艺气体，如氩气和氢气的混合气。以上IC封装等离子器件的基
