IP胶经等离子清洗机处理后其对DIW的接触角均有极为显著的降低：IP胶是一种广泛使用在0.25μm光掩模设计规则及以下的工艺中的一种光刻胶，表面活化剂特点有哪些化学式其中的IP3600就是一种常用于0.25DR的Hline光掩模的光刻胶。甚至在130nm工艺的相移掩模技术的二次掩模加工中，也会
