底部抗反射层和硬掩膜层蚀刻步骤使用的大气等离子清洗机蚀刻气体为氟基气体和氧气的组合，膜层附着力标准如CF4、CHF3、O2，共同完成对有机抗反射涂层和硬掩膜层的蚀刻。图5 低压等离子体发生器 低压等离子体发生器和EMSP； 低压气体放电装置一般由三部分组成：产生等离子体的电源、放电室、真空系统和工作
