(3)四氟化碳参与反应时会形成氢氟酸，硅片plasma清洁机排出的废气为有害气体，(4)防腐型干式真空泵推荐使用四氟等离子体。。等离子体设备在硅片加工表面处理中的应用:硅片加工是国内半导体产业链的很大一部分，等离子体设备广泛应用于硅片铸造，也有专门的硅片加工等离子体设备。中国的代工行业在整个半导体产
