传统的清洗方法，电晕处理数值如机械清洗、水清洗、溶剂清洗等不彻底，处理后的材料表面厚度会残留在几纳米到几十纳米之间，影响器件的焊接和粘接性能。在工业生产中，产品的可靠性要求并不严格，在使用过程中存在一定的清洗残留物，但随着精度和可靠性要求的逐步提高，越来越多的微电子厂商寻求新的表面清洗方法，大气电晕
