Cf4(四氟化碳)最多的等离子体刻蚀气体在微电子工业中,等离子体蚀刻通常被称为蚀刻、蚀刻、蚀刻、等,可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅,phospho-silicon玻璃和钨薄膜材料,生成其他CO, CO2, H2O和其他气体,从而达到蚀刻的目的。还广泛应用于电子设备表面清洁、太阳能电池生产、印刷电路
