不同气体的等离子体具有不同的性质，摄像头模组等离子体刻蚀如氧等离子体氧化性高，可氧化光刻胶反应产生的气体，从而达到清洗效果；刻蚀气体等离子体具有良好的各向异性，因此可以满足刻蚀的需要。采用等离子体处理技术的真空等离子体清洗设备会产生辉光，故称辉光放电处理。真空等离子清洗设备清洗样品表面并使其活化。通
