4、等离子体刻蚀：在半导体制造技术中，吉林等离子体除胶机视频大全等离子体刻蚀是干法刻蚀中最常见的一种方法，等离子体产生的带能粒子（轰击的正离子）在强电场下，朝硅片表面加速，这些例子通过溅射刻蚀作用去除未被保护的硅片表面材料，从而完成一部分的硅刻蚀。。等离子体的产生机理包括电离反应、带电粒子的传输以及
