Plasma Plasma processing TEOS工艺沉积二氧化硅薄膜的光谱研究：二氧化硅薄膜是一种性能优良的介电材料。具有介电性能稳定、介电损耗低、耐湿性优良、温度系数优良等优点。它非常稳定。化学和电绝缘性能。因此，什么决定了膜的亲水性二氧化硅被广泛应用于集成电路技术中。由于二氧化硅薄膜在
