两者的相互作用为提高涂层的结合强度、降低沉积温度和加快反应速率创造了有利条件。根据等离子源的种类，供应亲水性筛板哪家好等离子化学气相沉积技术可分为直流辉光放电、高频放电和微波等离子放电。 CVD反应的频率越高，等离子体对CVD反应的增强作用越明显，化合物形成的温度越低。 PCVD工艺设备包括沉积室、
