结果表明，氢氧化钠刻蚀二氧化硅模板二氧化碳在等离子体设备作用下CH4氧化反应的关键步骤是活性物质的生成，即等离子体设备产生的高能电子与CH4、二氧化碳和分子以弹性或非弹性的方式碰撞，导致CH和CHx (x=1 ~ 3)自由基连续c-H断裂。二氧化碳破坏c-0键并产生活性氧。活性氧与CH4或甲基自由基
