高科技工艺要求。低温等离子清洗工艺实际上是去除待处理工件上的污染物，二氧化硅刻蚀玻璃并在等离子反应的影响下被带走。处理周期通常只需几分钟即可去除表面污染物。没有残留物，也没有污染。由于气体通过小缝隙的渗透性远高于液体，因此可用于清洗形状复杂的物体。等离子清洗过程的决定性因素是是常压还是真空，甚至在温
