在有机清洁应用中，氧等离子体刻蚀氮化硼主要副产物一般包括水、一氧化碳和二氧化碳。基于化学反应的等离子体清洗，清洗速度快，选择性好，对去除有机污染物最有效。缺点是表面会发生氧化。典型的化学等离子体清洗是使用氧等离子体。&EMSP；物理过程：在物理过程中，原子、离子以高能量、高速轰击待清洗物体表面，使分
