然而，IC除胶uHF射频通常会产生驻波效应，影响等离子体的均匀性，特别是在大晶圆尺寸的情况下。目前对IED进行改进的商用机器之一是东京电子公司开发的CCP机器，它使用负直流脉冲作为上电极，主要用于超高宽比存储器的介电腐蚀。其机理是在射频同步脉冲关闭时增加直流电流值，从而提高离子轰击能力和电荷中和能力
