真空等离子清洗机的刻蚀工艺在半导体集成电路中，辽宁等离子处理仪厂家哪家好既可以刻蚀表层的光刻胶，也能够刻蚀下层的氮化硅层，通过对真空等离子清洗机的部分参数调整，是能够形成一定的氮化硅层形貌，即侧壁蚀刻倾斜度。 1 氮化硅材料特点 氮化硅（Si3N4）是目前炙手可热的新材料之一，具有密度小、硬度大
