研究发现，ICPplasma清洗机器通过优化CH3OH/Ar比，可以改善由于反应离子刻蚀引起的材料不可避免的磁性降解导致的磁电阻下降。除了通过气体选择优化蚀刻形状外，脉冲功率技术的引入带来了进一步的改进。除了IBE和ICP，中性束腐蚀(NBE)技术也是一个重要的候选技术。在NBE方案中，O2NBE在
