ionon指的是等离子体中的活性粒子可以与耐火材料的表面发生化学反应数据,然后引入大量的极性基团,因此数据变化从非极性的表面极性,提高表面张力,增强凝聚力。此外,等离子体的高速冲击下,交联的分子链断裂和表面的耐火材料数据,这就增加了表面的相对分子量分子,提高弱边界层的条件,也有积极影响的改进表面成键
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例:O2 + E- & RARR; 2O * + E-O * + Organic & RARR; CO2 + H2O 从反应式可以看出,ICP等离子去胶设备氧等离子体可以通过化学反应将非挥发性有机化合物转化为挥发性的H2O和CO2 .例:H2+E-→2H*+E-H*+非挥发性金属氧化物&R
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在IC芯片封装的情况下,ICP等离子除胶真空等离子刻蚀机的刻蚀工艺可以对表面的光刻胶进行刻蚀,防止硅基板因刻蚀而损坏,满足很多制程的要求。实验报告表明,改进真空等离子清洗机的一些参数,不仅可以满足刻蚀要求,还可以形成特定形状的氮化硅层,即侧壁刻蚀梯度。等离子蚀刻机和工件清洗的主要优势是什么?等离子蚀
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