典型的等离子体化学清洗工艺是氧等离子体清洗。等离子体产生的氧自由基是活泼的，附着力和遮盖力很容易与碳氢化合物反应产生挥发性物质，如二氧化碳、一氧化碳和水，从而去除表面的污染物。激发频率分类等离子体密度与激发频率的关系如下:Nc = 1.2425 × 108 v2其中Nc为等离子体密度(CM-3)，
