电晕刻蚀对PID的影响；电晕诱导损伤(PID)是指在集成电路制造过程中，吹膜机加电晕机的作用由于各种电晕工艺对MOSFET器件造成的损伤，导致器件性能偏差。在电晕环境中，由于放电产生了大量的离子和电子。离子在电极电位或电晕自偏压的作用下加速向晶片表面移动，对衬底产生物理轰击，促进表面化学反应。电晕与
