生产A-SI的主要工艺：H是等离子化学气相沉积。等离子化学气相沉积工艺是利用等离子介质产生离子组分，介质plasma除胶机器这些离子组分参与反应以实现在基板表面的沉积。与传统的化学气相沉积工艺相比，等离子体化学气相沉积工艺还可以在远低于其处理条件的温度下产生离子成分，并且还可以通过离子冲击对膜进行改
