广东芳如达科技有限公司 2022-12-05 13:20:12 114 阅读
通常FR-4多层板孔金属化工艺不易使用,亲水性导丝使用方法关键原因是化学沉铜前的活化过程。目前的湿处理方法是用萘钠络合处理液侵蚀孔内PTFE的表面原子来润湿孔壁。问题是处理液合成困难,毒性和结构保存时间短。在清孔过程中,该工艺能很好地解决上述干法加工问题。在PCB生产过程中,利用等离子体去除非金属残留物是较好的选择。
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广泛用于薄膜沉积、蚀刻和器件清洗等领域,放电室和反应室均抽真空。近年来出现了利用各种气体通过辉光放电产生低温等离子体的低温等离子体,其击穿电压低、离子和半稳定分子浓度高、电子温度高、中性。分子是存在的。它的优点是冷。产生的等离子体均匀部分大,可控性好,无需抽真空,可连续清洗表面。清洗时等离子体中化学活性成分的浓度越高,清洗效果(效果)就越好。文献报道的高浓度氧离子为2.1X10"7 / CM3 [4.51。
从 16/14 NM 节点开始,受 3D 晶体管结构、更复杂的前后端集成、EUV 光刻等因素驱动,工艺步骤数量显着增加,以及工艺和步骤清洁要求。会增加。会显着增加。从全球市场份额来看,单片清洗设备从2008年开始就跑赢自动化清洗设备,成为最重要的清洗设备,而今年正是行业引入45NM节点的时候。据 ITRS 称,2007-2008 年是 45NM 工艺节点量产的开始。
一些加工工艺用许多有机化学药物对这类橡塑制品表层进行加工处理,那样能转变原材料的黏合功效,但这样的方式难于把握,有机化学药物自身具备毒副作用,操作十分不便,成本费也较高,并且有机化学药物对橡塑制品原材料本身的优质特性也会有干扰。
此外,电路中用于连接作用的微三极管和细线也是通过绝缘层的CVD工艺制成的。在 CVD 过程中,一些残留物会积聚在反应室的内壁上。这里的危险是这些残留物与内壁分离并污染随后的循环过程。因此,在开始新的沉积工艺之前,应使用等离子清洁器清洁 CVD 室,以保持产品的可接受产量。传统的清洁剂是含氟气体,例如 PFCS 和 SF6,它们可用作等离子体产生气体,以从 CVD 室的内壁去除 SIO2 或 SI3N4。
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