广东芳如达科技有限公司 2022-12-24 18:31:44 150 阅读
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1:电源电压:AC 220 / 230V 50 / 60Hz 2:工作高频频率:18Hz-60Hz 3:输出功率(可调):350W-0W 4:最大功耗:0W 5:工作压力范围: 0.05MPa-0.5MPa 6:空气热源要求:0.30MPa-1.0MPa 7:主机尺寸:128*445*370MM 8:重量:12Kg。等离子表面处理设备在半导体器件中的亚绝缘处理及应用:一世。
应力邻近技术的效果与栅极的周期大小或密度有关。对于高密度门电路,附着力促进剂 1228在引入应力接近技术后,性能提升了 28%。与稀疏门电路的 20% 改进相比,性能提升更为显着。这是因为在高密度栅极电路中,栅极之间的空间很窄,应力层的体积和沉积后的应力体积在将应力引入相邻技术之前和之后差异很大。该层与施加到应力层的应力密切相关。应力邻近技术的刻蚀方式主要分为等离子设备的湿法刻蚀和干法刻蚀。
目前广泛应用的工艺主要是等离子体加工工艺,油性压敏胶用附着力促进剂等离子体加工工艺简单、环保、清洗效果显著,对于孔槽结构非常合理。等离子体处理器是指高度活化的等离子体在电场作用下定向运动,气固两相流与井壁污垢发生化学反应,局部未反应的气体产物和颗粒通过抽泵排出。
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目前,世界上工业清洗主要分为三种:化学清洗、物理清洗和生物清洗。其中,物理清洗包括PIG技术清洗、干冰清洗、超声波清洗、高压水射流清洗、等离子清洗等清洗类别。通过多年的研究和实践,越来越多的用户正在寻找和关注物理清洁方法。物理清洗技术可以说是世界清洗技术的发展方向。等离子清洗机是一种物理清洗机。其工作原理是等离子清洗机以气体为清洗介质,有效避免了液体清洗介质对被清洗物体造成的二次污染。
超声等离子体发生的反应为物理反应,射频等离子体发生的反应既有物理反应又有化学反应,微波等离子体发生的反应为化学反应。超声等离子体清洗对被清洁表面产生的影响很大,因而实际半导体生产应用中大多采用射频等离子体清洗和微波等离子体清洗。。
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