这种氧化膜不仅干扰半导体制造中的许多步骤，医用高分子材料表面改性而且还含有某些金属杂质，在一定条件下可以转移到盘上形成电气缺陷。这种氧化膜的去除通常是通过稀氢氟酸浸泡来完成的。。普通等离子体器件适用于精密电子、半导体、pcb、高分子材料等高端产品的部件，如果清洗不当，可能会损坏这些部件。这也是等离子
