使用真空等离子设备清洗技术的原因 这个过程直接是高能量的。将等离子流施加于待清洁表面，陶瓷等离子清洗机以达到真空等离子器具的清洁目的。可以选择不同的气体类型和比例来满足许多等离子清洗要求。例如，有机沉积物可以用 O2 等离子体氧化，颗粒污染可以用惰性氩等离子体机械洗掉，金属表面的氧化可以用 H2 等
