ICP刻蚀辉光放电产生的活性所产生的活性粒子扩散到衬底表面，陕西电晕电晕机发生化学反应，会产生一些不挥发的产物，来不及在衬底表面解吸沉积。此外，一些离子对衬底产生物理轰击撞击破坏表面晶格阵列，导致基材表面出现孔洞和坑洞，造成材料表面质量的下降。同时，由于硅和碳化硅的存在，使得原衬底表面的结构不均匀。
