等离子干法蚀刻机制造商的砷化镓蚀刻：除了砷化铟镓外，贵州等离子芯片除胶清洗机速率砷化镓也是一种备受期待的半导体材料，两者经常结合起来构建高性能器件。因此，有必要讨论和研究这种半导体蚀刻技术。采用Cl2和BCl3混合气体对砷化镓半导体材料进行深孔刻蚀，刻蚀速率为6～8um/min，以光刻胶为掩模材料，
