等离子清洗又称干式清洗，表面改性措施或条件是利用射频等离子源激发，使过程气体被激发成离子态，与清洗材料表面的污染物发生物理化学反应，通过真空泵反应产生的污染物排出，达到清洗效果。等离子体清洗的效果影响产品的收率。等离子清洗可应用于半导体行业、薄膜电路、元器件封装前、连接器粘接等行业的二次精密清洗。等
