但很明显，薄膜附着力差的原因物理蚀刻去除残留物的效果并不大，而且会轰击损伤下膜。也就是说，要用低偏压的氧等离子体来完成过刻蚀，这样可以有效去除残留物，保护底层薄膜。这种方案应该比使用主蚀刻程序来完成过蚀刻更有效，得到的图形也更好。以上是等离子表面处理器工厂石墨烯刻蚀原理实证分析。。等离子体表面处理器
