为实现400-630纳米的高透光率和近700-1100纳米的电光滤光片器件，薄膜等离子体去胶机器交替镀上高折射率和低折射率的光学薄膜，并通过成像清洗红外滤光片器件工艺应用：表面红外过滤装置 涂装前通常使用超声波清洗机和等离子装置进行清洗，但为了获得超洁净的基材表面，不仅可以去除，还需要等离子清洗.
