用于晶圆清洗的半导体等离子清洗机等离子清洗机不能去除碳和其他非挥发性金属或金属氧化物杂质。等离子清洁剂通常用于光刻胶去除过程。在等离子体反应体系中通入少量氧气，腻子油漆附着力差在强电场作用下产生氧气，光刻胶迅速氧化成为挥发性物质。除去气态物质。等离子清洗机在脱胶过程中具有方便、高效、表面清洁等优点。
