在氯气中加入BCl3和He对氮化钛剖面形状的影响可以看出，涂膜附着力画圈法虽然添加He可以带来更高的光阻选择比，但氮化钛蚀刻表面明显比添加BCl3.3倾斜。通常，在等离子体清洗机和其他干式蚀刻完成后，引入一个酸性或碱性湿式清洗步骤，以完全去除等离子体蚀刻在晶圆上形成的副产物，避免二次反应。冷等离子体
