为了更好地控制这些电晕特性，电晕机的日常保养一般通过控制电子能量分布(EED)和离子能量分布(IED)来实现，因为电子和离子的能量分布很大程度上影响着离子与晶圆表面的反应速度。一般来说，电晕清洁电子影响激发、电离、分解和热扩散等过程，从而影响许多中性反应物的通量、能量和表面反应速率。离子可以传递足够
