在射频电晕设备的氮化过程中，电晕处理的时机电晕的产生和衬底偏压的控制是分离的，因此可以分别控制离子能量和衬底表面通量。由于工作压力低，消耗的煤气量也相应减少。利用低能直流辉光放电产生的NH原子进行氮化，利用这些高活性原子进行氮化。整个过程需要外部电源对工件进行加热，类似于气体氮化。该工艺不仅可以控制
