6在电晕清洗设备的侧壁蚀刻过程中，保护膜电晕处理不均匀该怎么做除了均匀性外，顶部损耗也是侧壁蚀刻的重要参数。较小的顶高损耗会影响多晶硅栅的金属化厚度，增加金属栅的电阻。但在后金属栅工艺中，较多的顶高损耗会影响多晶硅伪栅的保护。。粘接强度与胶粘剂的组成、胶粘剂的结构和性能、胶粘剂的性能和表面状况以及使
