从反应机理来看，特氟龙plasma除胶机器等离子清洗通常涉及以下几个过程。无机气体被激发成等离子态，气相物质吸附在固体表面，吸附的基团与固体表面分子反应形成产物分子，产物分子分解形成气相，反应残渣从表面脱落。等离子清洗技术的最大特点是无论被处理的基材类型如何，都可以进行处理。金属、半导体、氧化物和大
