。等离子设备等离子体蚀刻对HCI的影响： 等离子设备等离子体蚀刻工艺可靠性中的HCI指的是高能量的电子和空穴注入栅氧化层而引起器件性能退化。 注入时会产生界面态和氧化层陷阱电荷，湖南实验室低温等离子表面处理机性能造成氧化层的损伤，随着损伤程度的加深，器件的电流电压特性发生变化，当器件参数的变化超过一
