测量值之间的差异和特征的目标价值大小蚀刻后等离子表面处理器可以反馈到酱曲线的修改,消除腐蚀的影响腔条件变化对特征尺寸,叫做post-feedback。多晶硅栅的特征尺寸均匀性决定了饱和电流的收敛程度。目前业界主流的多晶硅栅蚀刻机都配备了多区控温静电吸盘，添加型ppo附着力促进剂通过控制芯片上不同区域
