使用内部预设程序和使用各种气体产生化学活性等离子体很容易进行材料和样品表面的清洁、脱脂、还原、活化、去除，氧等离子表面清洗器如光刻胶、蚀刻、涂层等。我可以做到。在使用原子力显微镜（(AFM)、扫描电子显微镜 (SEM) 或透射电子显微镜 (TEM)）对样品进行相位调谐之前，氧等离子体用于去除样品表面
