2）氩气在等离子环境中产生氩离子，氧化硅具有亲水性利用材料表面产生的自偏压溅射材料，去除表面吸附的异物，有效去除表面的金属氧化物。微电子学、引线键合前的等离子处理就是这种工艺的典型例子。等离子处理的焊盘表面可以通过去除异物和金属氧化物层来提高后续引线键合工艺的良率和键合线的推挽功能。在等离子工艺过程
