3）铁、铜、铝、铬、钨、钛、钠、钾、锂等半导体工艺常见金属杂质的主要来源是各种器具、管道、化学试剂、半导体晶圆加工等。在半导体晶片的加工过程中，杭州等离子真空清洗机供应商在产生金属互连的同时，也会产生各种金属污染物。通常使用化学方法去除这些杂质，使用各种试剂和化学品制备的清洁溶液与金属离子反应形成从
