蚀刻机原理电感耦合等离子体刻蚀(ICPE)是化学过程和物理过程共同作用的结果。其基本原理是在真空低气压下，IC等离子体刻蚀设备ICP射频电源产生的射频以一定份额输出到环形耦合线圈；混合蚀刻气体通过耦合辉光放电产生高密度等离子体。在MI电极RF射频的作用下，这些等离子体外壳衬底表面，衬底图形区半导体数
