领域的集成电路芯片制造、等离子体处理技术已经成为不可替代的成熟的过程,无论是芯片源离子注入,或晶片涂层,或我们的低温等离子体表面处理设备可以实现:晶圆表面去除氧化膜、有机物质、面具和其他ultra-purification治疗而表面活化(activation)可以提高晶体的表面润湿性。。常压低温等离
