等离子体干蚀刻机制造商镓作为蚀刻机:除铟镓砷外，拉开法附着力脱落abc镓砷是一种被广泛期待的半导体材料，并且这两种材料经常被一起用于制造高性能器件。因此，有必要对这类半导体的刻蚀技术进行探讨和展望。用Cl2和BCl3混合气体对镓和砷半导体材料进行深孔刻蚀。蚀刻速率为6-8um /min，光刻胶作为掩
