因此，引线框架等离子体除胶机气体的流动形成气场，干扰等离子体的运动、表现和一致性。铜的放置。固定支架 干扰电场和气体磁场的特性，能量分布不平衡，局部等离子体密度太高而无法烧毁基板。。目前的铜支架等离子表面处理仍采用等离子处理设备，因为目前的常压等离子清洗机在铜引线框架的处理温度、氧化和二次污染方面没
